UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的独特组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、SiC、GaAs、InP）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

• 最大加工尺寸为ø300mm（ø12英寸）。
• 200 - 300 nm/min的高灰化率。
• 加热阶段加快了清洗速度，实现了宽广的工艺温度范围。
• 通过调整平台和石英扩散板之间的间隙，可以提高基板的均匀性。
• 紧凑，使用最小的洁净室空间
• 简单，在大气压下操作--不需要真空系统。
• 柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。
• 抽屉联锁保证了当抽屉打开时系统无法工作。
• 内置臭氧催化剂装置，可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

• 塑料包装和引线框架的表面清洁。
• 复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗。
• 表面改性（润湿性和附着力的改善
• 表面氧化(薄氧化层沉积)
• 光阻剂的灰化、剥离和除尘。
• 清除有机污染物
• 紫外线固化