RIE-200C 是基于我们在 CCP RIE 系统“RIE-10NR”上的经验开发的量产盒式系统,该系统具有丰富的交付记录。该系统可对Si、Poly-Si、SiO2、SiN等多种硅薄膜进行高精度刻蚀和灰化,采用双卡匣双臂机械手,全自动操作,实现高产能。 PLC控制,高性能存储工艺参数。
大气高速传输系统
该系统配备了一个大气盒室和一个大气传输机器人,而不是通常的负载锁定室。它可以处理最大 ø8" 晶圆的自动处理,并且可以安装在两个晶圆盒中。
全自动操作
通过触摸屏实现全自动操作,通过 PLC 控制可以进行过程管理和数据记录。