要点
RIE-10NR 是一种新颖的低成本、高性能、全自动反应离子蚀刻系统,可满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。RIE-10NR 凭借其时尚、紧凑的设计,需要最小的洁净室空间。
主要特点和优点
- 加工最大 ø220 mm(ø3” x 5、ø4” x 3、ø8” x 1)
- 高选择性各向异性蚀刻满足苛刻的工艺要求
- 全自动“一键式”操作,全手动操作
- 计算机化触摸屏为参数控制和存储提供了用户友好的界面
- 自动压力控制,可以独立于气体流量精确控制过程压力
- 干式泵和系统布局便于维护
- 可靠耐用的系统,全球已安装 400 多套系统
应用
- Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各种材料的蚀刻。
- 故障分析中的选择性层蚀刻
- 光刻胶灰化、剥离和除渣
- 表面改性(润湿性和附着力改善)