高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室,是一套完整的生产系统,具有优良的工艺重复性和稳定性。
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。
可高效稳定地应用高射频功率(2千瓦以上),并实现良好的均匀性。
大流量排气系统
排气系统直接连接到反应室,可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。
下电极升降机构
晶片和等离子体之间的距离经过优化,以确保良好的平面内均匀性。
易于维护的设计
TMP(涡轮分子泵)集成在设备中,便于更换。