●匹配線陣相機使用同軸落射照明●籍由半反射鏡,實現與相機同軸角度進行照射●籍由對工件表面的凹痕,刮傷及刻印處所發生的正向反射光實現有效抑制,令於檢出對象的明暗差更加顯著●工件與照明間的距離與相機可獲取到的正反射光成分按正比增長●實現高輝度照射的同時,確保了機體設計上的小巧,令在狹窄場所的設置亦成為可能
